Youfumiのライニングバルブソリューションで半導体プロセスを最適化
半導体製造
Youfumi のライニングバルブは、専用の射出成形機を使用して、クラス 100000 の工場で超クリーンなフッ素材料でライニングされています。
当社の製品には、ライニング ボール バルブ、ライニング バタフライ バルブ、ライニング ゲート バルブ、ライニング チェック バルブなどがあります。
半導体業界のハイエンドユーザーのニーズを満たすために、さまざまな直径、圧力、材料のオプションを提供しています。
逆浸透(RO)アプリケーション
半導体工場では、ウェハ処理と設備サポートのために毎日数百万ガロンもの水を消費しています。逆浸透(RO)技術は、浮遊物質や有機化合物を除去して高純度の水を生成するために不可欠です。
YOUFUMIライニングバルブと継手 RO システムにおいて優れた耐薬品性と漏れゼロの性能を提供します。
- プロセス冷却水(PCW)
- RO前処理とろ過
- 酸・アルカリ供給スキッド
- 廃水再生システム
- ユーティリティ水制御パネル
YOUFUMI の PTFE/PFA ライニングのボール、プラグ、チェック バルブは、HCl や H₂SO₄ などの酸による腐食に耐え、RO の連続運転において長寿命と安全性を保証します。
超純水(UPW)システム
半導体ノードが10nm未満に進化するにつれ、パーティクル汚染を防ぎ、ウェーハの歩留まりを維持するために超純水が不可欠になります。超純水システムは、SEMI F63およびF104規格を満たすために、超清浄な配管とバルブを採用しています。
YOUFUMIライニングバルブ 次のような場合に最適です:
- UPW研磨システム
- ウェーハ洗浄および表面調整
- ウェットエッチングと溶剤プロセス
- 化学機械平坦化(CMP)
- UPWの再循環と貯蔵
UPW サービスで使用されるすべての YOUFUMI バルブは、クリーンな環境で製造され、抽出物がテストされ、純度を保つようにパッケージ化されています。
脱イオン水(DI水)の配給
脱イオン水は、ウェハ洗浄や装置のリンスに広く使用されています。あらゆるミネラルイオンや金属の痕跡が除去されていなければなりません。300mmウェハ1枚あたり、6,000ガロン(約6,000リットル)以上の脱イオン水が必要になる場合があります。
YOUFUMIの ライニング付きバタフライバルブとダイヤフラムバルブ 提供する:
- 低圧力損失フロー
- 非浸出性フッ素ポリマーライニング
- イオン交換スキッドおよびDIWループにおける気泡タイト遮断
当社の耐腐食性バルブは、抵抗を維持し、DIW 回路内の金属汚染を防ぎます。
水の再生と排水処理
エッチング、洗浄、CMPに使用された後の超純水(UPW)または純水には、ピラゾール、ピラニア酸、金属イオン、酸化剤などの有毒な残留物が含まれています。これらの水の処理とリサイクルは、ファブの持続可能性にとって不可欠です。
YOUFUMI は、次のような耐腐食ソリューションを提供しています。
- 酸中和システム
- 重金属除去スキッド
- 排水収集タンク
- スクラバーシステム
- 排出バルブマニホールド
YOUFUMI のライニング付きゲート バルブとチェック バルブは、最小限のメンテナンスで酸を多く含む環境でも長期的な信頼性を実現します。
パフォーマンス認定。世界中で信頼されています。
原材料検査から最終製品の出荷まで、当社の生産工程はすべてISOやCEといった国際的に認められた規格に厳密に準拠しています。完全に文書化された品質管理システムにより、一貫性、信頼性、そしてコンプライアンスを確保し、当社が提供するあらゆるライニングバルブソリューションに完全な信頼をお届けします。

















優れたバルブの完全性を実現する ISO 認証クリーンルームソリューション
クリーンルームバルブサービス
製品の性能が耐腐食性と低イオン沈殿物の品質要件を満たすことを保証するために、Youfumi は PPB グレードと PPT グレードの PTFE ライニングの無塵工場、超純水製造工場、高純度窒素製造工場を建設し、半導体工業製品の製造におけるユーザーの要件を満たす製品を提供しています。
ワンストップソリューション
半導体産業
超高純度ライニングバルブ、パイプ、継手の全製品ラインナップをご覧ください
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